eprintid: 64509
rev_number: 1
eprint_status: archive
userid: 1
dir: disk0/00/06/45/09
datestamp: 2026-05-26 15:54:56
lastmod: 2026-05-26 15:54:56
status_changed: 2026-05-26 15:54:56
type: article
metadata_visibility: show
sword_depositor: 1
creators_name: Валатов, Руслан
creators_name: Валатов, Руслан
title: ПСИХОЛОГИЧЕСКИЕ ДЕТЕРМИНАНТЫ И МОТИВАЦИОННЫЕ ФАКТОРЫ ФОРМИРОВАНИЕ ЭМОЦИОНАЛЬНОЙ УСТОЙЧИВОСТИ У ВОЕННОСЛУЖАЩИХ
ispublished: pub
subjects: эмоциональная устойчивость
subjects: мотивация
subjects: саморегуляция
subjects: стрессоустойчивость
subjects: психологическая адаптация
keywords: эмоциональная устойчивость; мотивация; саморегуляция; стрессоустойчивость; психологическая адаптация
note: Imported from MJST Journal (OAI id oai:ojs.pkp.sfu.ca:article/6164)
abstract: В статье анализируются мотивационно-психологические механизмы развития эмоциональной устойчивости личности, особенно в контексте профессиональной и военной деятельности. Эмоциональная устойчивость рассматривается как интегративное качество личности, обеспечивающее сохранение внутреннего равновесия, контроль над эмоциями и поведением в условиях стресса и повышенной ответственности. Особое внимание уделено роли мотивационной сферы личности, определяющей уровень саморегуляции, уверенности в себе и готовности к преодолению трудностей. Автор раскрывает влияние внутренних и внешних мотивов на формирование эмоциональной устойчивости и описывает эффективные психологические методы её развития, направленные на повышение стрессоустойчивости и адаптационного потенциала военнослужащих.
date: 2025-12-15
date_type: published
publisher: Center for Tech and Media Research
official_url: https://mjstjournal.com/index.php/mjst/article/view/6164
id_number: oai:ojs.pkp.sfu.ca:article/6164
full_text_status: none
publication: Multidisciplinary Journal of Science and Technology
citation:   Валатов, Руслан, Валатов, Руслан  (2025) ПСИХОЛОГИЧЕСКИЕ ДЕТЕРМИНАНТЫ И МОТИВАЦИОННЫЕ ФАКТОРЫ ФОРМИРОВАНИЕ ЭМОЦИОНАЛЬНОЙ УСТОЙЧИВОСТИ У ВОЕННОСЛУЖАЩИХ.  Multidisciplinary Journal of Science and Technology.