eprintid: 60887 rev_number: 1 eprint_status: archive userid: 1 dir: disk0/00/06/08/87 datestamp: 2026-05-26 15:52:01 lastmod: 2026-05-26 15:52:01 status_changed: 2026-05-26 15:52:01 type: article metadata_visibility: show sword_depositor: 1 creators_name: Абдреймов, Али creators_name: Хожамуратова, Жасмина title: ВОЛЬТАМПЕРНОЙ ХАРАКТЕРИСТИКИ ДИОДОВ НА ОСНОВЕ Π-N-СТРУКТУР, ЛЕГИРОВАННЫХ ЖЕЛЕЗОМ В ПРОЦЕССЕ ДИФФУЗИИ. ispublished: pub subjects: лавинного пробой, ударной ионизации, дислокаций, запрещенной зона. keywords: лавинного пробой, ударной ионизации, дислокаций, запрещенной зона. note: Imported from MJST Journal (OAI id oai:ojs.pkp.sfu.ca:article/4233) abstract:        В работе представлены экспериментальные результаты по исследованию вольт амперных характеристик p-n перехода лавинных диодах. В местах расположения дислокаций концентрация примесей увеличивается также вследствие повышенного значения коэффициента диффузии вдоль дислокаций. Но увеличение концентрации примеси также приведет к уменьшению Uпр в данной локальной области p-n перехода. Следовательно, при подаче обратного смещения на диод в области p-n-перехода с пониженным значением Eg или с повышенной концентрацией примеси начнет развиваться лавинный пробой при напряжении, меньшем Uпр, для основной части площади p-n перехода. В этой локальной области за счет развития лавины резко возрастет концентрация электронно-дырочной плазмы, поэтому ее иногда называют микроплазмой, а сам пробой – микроплазменным. Участок резкого нарастания тока (от 1/5÷1/3 Uп до Uп), где I≈Uп, а n изменяется от 1÷2 до 8÷14 (изменение n с ростом U носит немонотонный характер). Данный участок соответствует эффекту Пула-Френкеля или микроплазменному пробою. date: 2025-06-21 date_type: published publisher: Center for Tech and Media Research official_url: https://mjstjournal.com/index.php/mjst/article/view/4233 id_number: oai:ojs.pkp.sfu.ca:article/4233 full_text_status: none publication: Multidisciplinary Journal of Science and Technology citation: Абдреймов, Али, Хожамуратова, Жасмина (2025) ВОЛЬТАМПЕРНОЙ ХАРАКТЕРИСТИКИ ДИОДОВ НА ОСНОВЕ Π-N-СТРУКТУР, ЛЕГИРОВАННЫХ ЖЕЛЕЗОМ В ПРОЦЕССЕ ДИФФУЗИИ. Multidisciplinary Journal of Science and Technology.