@prefix dct: <http://purl.org/dc/terms/> .
  @prefix xsd: <http://www.w3.org/2001/XMLSchema#> .
  @prefix ep: <http://eprints.org/ontology/> .
  @prefix void: <http://rdfs.org/ns/void#> .
  @prefix foaf: <http://xmlns.com/foaf/0.1/> .
  @prefix skos: <http://www.w3.org/2004/02/skos/core#> .
  @prefix owl: <http://www.w3.org/2002/07/owl#> .
  @prefix bibo: <http://purl.org/ontology/bibo/> .
  @prefix cc: <http://creativecommons.org/ns#> .
  @prefix rdf: <http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#> .
  @prefix rdfs: <http://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#> .
  @prefix dc: <http://purl.org/dc/elements/1.1/> .
  @prefix epid: <https://arxiv.universalpublishings.com/id/> .
  @prefix doi: <https://doi.org/> .
  @prefix event: <http://purl.org/NET/c4dm/event.owl#> .
  @prefix geo: <http://www.w3.org/2003/01/geo/wgs84_pos#> .
  @prefix eprel: <http://eprints.org/relation/> .

<>
	foaf:primaryTopic <https://arxiv.universalpublishings.com/id/eprint/60887>;
	rdfs:comment "The repository administrator has not yet configured an RDF license."^^xsd:string .

<https://arxiv.universalpublishings.com/id/eprint/60887#authors>
	rdf:_1 <https://arxiv.universalpublishings.com/id/person/ext-b1d3b1fcd6780bf6e5a07e9aa101c83b>;
	rdf:_2 <https://arxiv.universalpublishings.com/id/person/ext-ffac40e52ae2161b3984478fd553e439> .

<https://arxiv.universalpublishings.com/id/eprint/60887/>
	dc:format "text/html";
	dc:title "HTML Summary of #60887 \n\nВОЛЬТАМПЕРНОЙ ХАРАКТЕРИСТИКИ ДИОДОВ НА ОСНОВЕ Π-N-СТРУКТУР, ЛЕГИРОВАННЫХ ЖЕЛЕЗОМ В ПРОЦЕССЕ ДИФФУЗИИ.\n\n";
	foaf:primaryTopic <https://arxiv.universalpublishings.com/id/eprint/60887> .

<https://arxiv.universalpublishings.com/id/eprint/60887>
	bibo:abstract "&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp; В работе представлены экспериментальные результаты по исследованию вольт амперных характеристик p-n перехода лавинных диодах. В местах расположения дислокаций концентрация примесей увеличивается также вследствие повышенного значения коэффициента диффузии вдоль дислокаций. Но увеличение концентрации примеси также приведет к уменьшению Uпр в данной локальной области p-n перехода. Следовательно, при подаче обратного смещения на диод в области p-n-перехода с пониженным значением Eg или с повышенной концентрацией примеси начнет развиваться лавинный пробой при напряжении, меньшем Uпр, для основной части площади p-n перехода. В этой локальной области за счет развития лавины резко возрастет концентрация электронно-дырочной плазмы, поэтому ее иногда называют микроплазмой, а сам пробой – микроплазменным. Участок резкого нарастания тока (от 1/5÷1/3 Uп до Uп), где I≈Uп, а n изменяется от 1÷2 до 8÷14 (изменение n с ростом U носит немонотонный характер). Данный участок соответствует эффекту Пула-Френкеля или микроплазменному пробою."^^xsd:string;
	bibo:authorList <https://arxiv.universalpublishings.com/id/eprint/60887#authors>;
	bibo:status <http://purl.org/ontology/bibo/status/published>;
	dct:creator <https://arxiv.universalpublishings.com/id/person/ext-b1d3b1fcd6780bf6e5a07e9aa101c83b>,
		<https://arxiv.universalpublishings.com/id/person/ext-ffac40e52ae2161b3984478fd553e439>;
	dct:date "2025-06-21";
	dct:isPartOf <https://arxiv.universalpublishings.com/id/repository>,
		<https://arxiv.universalpublishings.com/id/publication/ext-d62a5dbdabc792c15cf76756361a4d36>;
	dct:publisher <https://arxiv.universalpublishings.com/id/org/ext-20ef1f289b7920027328009b5eefe52c>;
	dct:title "ВОЛЬТАМПЕРНОЙ ХАРАКТЕРИСТИКИ ДИОДОВ НА ОСНОВЕ Π-N-СТРУКТУР, ЛЕГИРОВАННЫХ ЖЕЛЕЗОМ В ПРОЦЕССЕ ДИФФУЗИИ."^^xsd:string;
	rdf:type bibo:AcademicArticle,
		bibo:Article,
		ep:ArticleEPrint,
		ep:EPrint;
	rdfs:seeAlso <https://arxiv.universalpublishings.com/id/eprint/60887/> .

<https://arxiv.universalpublishings.com/id/org/ext-20ef1f289b7920027328009b5eefe52c>
	foaf:name "Center for Tech and Media Research"^^xsd:string;
	rdf:type foaf:Organization .

<https://arxiv.universalpublishings.com/id/person/ext-b1d3b1fcd6780bf6e5a07e9aa101c83b>
	foaf:familyName "Абдреймов"^^xsd:string;
	foaf:givenName "Али"^^xsd:string;
	foaf:name "Али Абдреймов"^^xsd:string;
	rdf:type foaf:Person .

<https://arxiv.universalpublishings.com/id/person/ext-ffac40e52ae2161b3984478fd553e439>
	foaf:familyName "Хожамуратова"^^xsd:string;
	foaf:givenName "Жасмина"^^xsd:string;
	foaf:name "Жасмина Хожамуратова"^^xsd:string;
	rdf:type foaf:Person .

<https://arxiv.universalpublishings.com/id/publication/ext-d62a5dbdabc792c15cf76756361a4d36>
	foaf:name "Multidisciplinary Journal of Science and Technology"^^xsd:string;
	rdf:type bibo:Collection .